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武汉气相沉积炉技术特点

来源:http://wuhan.sinokiln.com/news502530.html

发布时间:2020/11/17 9:19:00

    咸阳科源新材装备有限公司主要展示武汉磷酸铁锂煅烧炉,武汉硅碳负极包覆设备,武汉回转炉等方面的相关信息以及资讯发布,欢迎您关注我站!

    科源武汉气相沉积炉技术成熟、型号齐全、质量可靠、服务有保障,是各大高校和科研机构长期合作企业,可根据需求定制。下面我们来了解一下气相沉积炉的技术特点。

    1)在中温或高温下,通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。

    2)气相沉积炉可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好)。

    3)采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应,使沉积可在较低的温度下进行。

    4)涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化,从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

    5)气相沉积炉可以控制涂层的密度和涂层纯度。

    6)绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好,所以可涂覆带有槽、沟、孔,甚至是盲孔的工件。

    7)沉积层通常具有柱状晶体结构,不耐弯曲,但可通过各种技术对化学反应进行气相扰动,以改善其结构。

    8)气相沉积炉可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。

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