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武汉硅碳负极包覆设备是咸阳陶瓷研究院多年研发、生产的设备，设备采用高精度的温控表进行控温。温度控制采用PID控制方式，具有结构简单、稳定可靠、调整方便、适用范围广等优点。可以根据工艺设置不同的温度曲线，不同的升温时间和保温时间。
武汉硅碳负极包覆设备参数介绍：
1、使用温度:0~1300度（非金属炉管）。
2、升温速率：根据工艺进行调整，可以快速升温。
3、控温精度：±1℃。
4、测温点：6点到12点。
5、炉管转速：0.2—1rp/min（可根据实际情况进行调整）。
6、保护气体：可以通入水蒸气，二氧化碳，氮气，氢气等气体。
7、电压：380V，50HZ
8、通入保护气体后氧气含量和保护气体的纯度有关。
9、硅碳负极包覆设备日产量根据工艺从200公斤到10吨不等。
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