武汉气相沉积炉用途及特点

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一、设备用途：

化学武汉气相沉积炉主要用于碳化硅（SIC）及氮化硼（BN）等新材料的制备。

二、气相沉积炉设备特点：

1 立式结构，气相沉积炉炉门采用丝杠升降或液压升降/手动升降。

2 双层炉壳结构，内层不锈钢，外层为碳钢，中间通水冷却。石墨碳棒加热体，石墨碳毡保温层保温效果好。

3 控制方式为PLC加触摸屏方式，有手动及自动控制切换。自动化程度高，操作方便。

4 主要电器元件采用知名品牌，性能稳定、可靠。

5 配备出、装料料车，方便操作及出装料，提高工作效率。

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