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武汉气相沉积炉呢是一种真空设备，也就是要在一定真空环境下进行工作的。气相沉积炉的主要部分有：真空反应室，抽气组件，控制面板和水气电的部分.
气相沉积炉 而气相沉积技术是一种快速发展以及应用广的表面成膜技术，气相沉积技术不仅仅可以用来制备各种特殊的力学性能的薄膜涂层，而且还能用来制备各种功能薄膜材料和装饰薄膜涂层等。 气相沉积技术可以分为物理气相沉积（简称PVD）和化学气相沉积（简称CVD）。其中化学气相沉积用的是为广泛，化学气相沉积可以通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，用这种技术可以在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态的沉积物。
气相沉积炉向您介绍就是两种或者两种以上的气态原料通过导入到一个反应室内,然后他们之间发生化学反应，从而形成一种新形材料，沉积到基片表面上。而CVD和PVD相比，沉积过程要发生化学反应，这是一个气象化学生长的过程。
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