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很多朋友对于武汉气相沉积炉这种设备仅存在听过它的名称的环节，对于气相沉积炉并不了解，今天，小编就带着大家了解一下何为气相沉积炉。
化学气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中武汉CVD气相沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。
CVD气相沉积炉的设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。
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